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硅
硅
中文名称：
硅
英文名称：
Silicon
| CAS： 7440-21-3 | 分子式： Si | 分子量： 28.09 | EINECS号： |
Silicon
美国有毒物质控制法案(TSCA)目录
美国有毒物质控制法案目录
基本性质
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溶解度
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insoluble in H2O, acid solutions; soluble in alkaline solutions
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|---|---|
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形态
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powder
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颜色
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White
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比重
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2.42
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气味 (Odor)
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Odorless
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PH值
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13.5 (H2O, 20°C)
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水溶解性
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INSOLUBLE
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晶体结构
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Cubic, Diamond Structure - Space Group Fd3m
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Merck
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13,8565
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Dielectric constant
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2.4（Ambient）
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暴露限值
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ACGIH: TWA 2.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 250 mg/m3; TWA 2.5 mg/m3 |
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NIST化学物质信息
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EPA化学物质信息
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安全信息
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危险品标志
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|---|---|
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危险类别码
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安全说明
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危险品运输编号
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UN 2922 8/PG 2
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自燃温度
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780°C
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海关编码
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3822 00 00
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毒害物质数据
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CHS信息
生产方法及用途
| 生产方法 |
工业生产有坩埚直拉法、悬浮区熔法、中子嬗变掺杂法。
坩埚直拉法拉晶前先将设备各部件、合金石英坩埚、硅多晶和籽晶进行清洁处理。 将硅多晶破碎除去石墨，经丙酮去油后，进行化学清洗，用无离子水洗至中性，再经超声波清洗，红外干燥，配料及掺杂，加入单晶炉的合金石英坩埚中，再经抽真空、熔化，在流通的氩气氛下，人工引晶放肩和收尾。晶体的等径生长过程中，需根据情况适当调节功率，使其获得直径均匀的产品，经检测、称量，制得硅单晶成品。 悬浮区熔法先将设备和原料清洁处理，把硅多晶切断，磨后用丙酮去油，进行化学清洗，用无离子水洗至中性，再经超声波清洗，红外干燥，配料和掺杂，装炉，抽真空或充氩气。在氩气下高频加热进行区熔提纯单晶。预热、引晶、放肩、等径、收尾等过程，由人工控制。再经检测、称量，制得硅单晶成品。 |
|---|---|
| 生产方法 |
三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中，与通人的干燥氯化氢气体在280～330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应，反应气体经旋风分离除去杂质，再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体，经粗馏塔蒸馏和冷凝，除去高沸物和低沸物，再经精馏塔蒸馏和冷凝，得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送人不锈钢制的还原炉内，用超纯氢气作还原剂，在1050～1100℃还原成硅，并以硅芯棒为载体，沉积而得多晶硅成品。其
H2+C12→2HCl S+3HCl→SiHC13+H2 SiHCl3+H2→Si+3HCl |
| 化学性质 |
具有灰色金属光泽的晶体。 溶于氢氟酸和硝酸的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。
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| 用途 |
主要用作制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金的化合物。
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